Máy đánh bóng cơ khí hóa học tự động loại nào tốt

Có thể đàm phánCập nhật vào04/22

Mô hình

Thiên nhiên của nhà sản xuất: Nhà sản xuất

Danh mục sản phẩm

Nơi xuất xứ

Tư vấn trực tuyến

Tổng quan

Từ góc độ kinh tế phòng thí nghiệm quy mô nhỏ, máy đánh bóng cơ khí hóa học loại Rpo-6 được sử dụng để nghiên cứu và phát triển quy trình CMP, lựa chọn thay thế wafer đánh bóng, tính linh hoạt cao của nó có thể đánh bóng bất kỳ vật liệu nào. Ma sát tại chỗ và đánh bóng pad mài mòn đo lường quy trình thay thế đầu dò đạt tiêu chuẩn wafer 6 inch&vận chuyển hàng tiêu dùng

Chi tiết sản phẩm

Mô hình Rpo-6Máy đánh bóng cơ khí hóa họcCác tính năng chính

kỹ thuật

Đánh bóng cơ học hóa học (CMP) là quá trình được sử dụng để làm phẳng tấm wafer hoặc các vật liệu khác đang được xử lý, trong khi công nghệ đánh bóng được đánh bóng bằng cách sử dụng sự phối hợp của vật lý và hóa học để đánh bóng tấm wafer, được thực hiện bằng cách cung cấp cho cơ sở của mẫu được lưu trữ trong tấm đánh bóng một lực tải, khi chất lỏng đánh bóng có chứa cả chất mài mòn và chất hóa học hoạt tính đi qua đáy, miếng đánh bóng và mẫu bắt đầu đếm quay.

Ma sát tại chỗ

Dụng cụ này nghiên cứu các kỹ thuật đánh bóng cơ bản bằng cách đo ma sát tại chỗ và mức độ hao mòn, trong khi những thay đổi trong ma sát có thể được sử dụng để mô tả tỷ lệ loại bỏ gần đúng.

Mặc miếng đệm tại chỗ

Tỷ lệ hao mòn tại chỗ có thể được sử dụng để phản ứng với trạng thái của miếng đệm trong các tình huống như đánh bóng, điều chỉnh.

trạng thái

Điều chỉnh tại chỗ và không tại chỗ

Kích thước wafer

Các kẹp wafer dễ dàng thay thế có thể được đánh bóng trên cùng một thiết bị kiểm tra có kích thước từ 1 inch đến 6 inch.

bơm

Máy bơm lập trình độc lập có thể cung cấp bùn, nước và các sản phẩm hóa chất khác.

Hàng tiêu dùng và tư vấn liên quan

Vật liệu đánh bóng tiêu chuẩn mà chúng tôi cung cấp không chỉ chứa dụng cụ mà còn có một loạt vật tư tiêu hao (chất lỏng đánh bóng, miếng đệm đánh bóng......), đồng thời, đội ngũ khoa học của chúng tôi cũng sẽ cung cấp dịch vụ tư vấn về phát triển và tối ưu hóa quy trình công nghệ cho bạn.

Mô hình Rpo-6Máy đánh bóng cơ khí hóa họcquy cách

Tải wafer nhân tạo

Hệ thống R&D CMP

Điều chỉnh tại chỗ và không tại chỗ

Bùn và ống nước sử dụng máy bơm có thể lập trình

Độ cứng cao và kiểm soát lực tốt

Đường kính trống 340mm

Mẫu 6 inch

Ma sát tại chỗ và lựa chọn mặc miếng đệm

Kích thước in w870x, d800x, h870mm

Ứng dụng - CMP, MEMS, Kiểm tra hàng tiêu dùng

Ứng dụng

Đánh bóng

Phát triển quy trình

Phát triển môi trường

Phát triển chất lỏng đánh bóng

Đặc điểm của miếng đánh bóng

Phát triển hạt

Sản phẩm tương tự Khuyến nghị